Blender快捷键整理

一、鼠标基础操作（3D 视图导航）

Blender 默认以鼠标右键选择，以下为通用操作：

  • 鼠标中键（MMB）拖动：旋转视图
  • Shift + 鼠标中键拖动：平移视图
  • 鼠标滚轮：缩放视图S
  • Alt + 鼠标中键拖动：快速切换正交视图（前 / 后 / 左 / 右 / 顶 / 底）
  • 鼠标左键（LMB）：确认操作、放置点、执行命令
  • 鼠标右键（RMB）：取消操作、打开上下文菜单

二、模式切换（建模核心）

  • F4偏好设置
  • Tab：物体模式 ↔ 编辑模式（最常用）
    • 编辑模式：可以选择点线面进行操作
  • Ctrl + Tab：打开模式选择菜单（物体 / 编辑 / 雕刻 / 纹理绘制等）
  • 1 / 2 / 3（主键盘）：编辑模式下切换选择模式
    • 1：顶点选择
    • 2：边选择
    • 3：面选择

三、选择操作

  • 鼠标左键摁住移动可选择
  • A：全选 / 取消全选（双击 A 取消全选）
  • B：框选（拖动鼠标框选）
  • C：笔刷选择（拖动鼠标刷选）
  • Ctrl + 点击：加选
  • Shift + 点击：减选
  • Ctrl + I：反选
  • Ctrl + L：选择相连元素
  • Alt + 点击边：选择边环
  • Alt + 点击面：选择面环

变换操作（移动 / 旋转 / 缩放）

  • G：移动（Grab）
    • G + X/Y/Z：沿指定轴移动
    • G + X+X / Y+Y / Z+Z：沿局部轴移动
  • R：旋转（Rotate）
    • R + X/Y/Z：沿指定轴旋转
  • S：缩放（Scale）
    • S + X/Y/Z：沿指定轴缩放
  • Shift + D：复制并进入移动状态
  • Alt + D：关联复制（实例化）
  • Ctrl + G/R/S：吸附到网格 / 顶点等
  • Alt + G/R/S：重置位置 / 旋转 / 缩放

切割与拓扑（建模高频）

1. 裁刀工具（自由切割）

  • K：激活裁刀工具
    • 鼠标左键：添加切割点
    • 拖动鼠标：绘制切割线
    • Enter / Space：确认切割
    • Esc：取消切割
    • C：切换切割模式（平行 / 垂直 / 45°）
    • Z：切换是否只切割可见面
    • Shift + K：仅切割选中部分

2. 环切（Loop Cut，最常用）

  • Ctrl + R：环切（添加环形边）
    • 滚动鼠标滚轮：调整环切数量
    • 左键确认位置，右键取消

基础编辑命令

  • E：挤出（编辑模式下选中顶点 / 边 / 面后）
  • I：内插面（向内收缩并创建新面）
  • F：填充（选中顶点 / 边创建面）
  • Ctrl + B：倒角（选中边 / 面进行圆角处理）
  • Ctrl + E：边操作菜单（挤出、桥接、旋转等）
  • X / Delete：删除选中元素（弹出删除选项）
  • H：隐藏选中
  • Alt + H：显示所有隐藏
  • Shift + H：隐藏未选中

视图显示

  • Z：打开视图模式菜单（实体 / 线框 / 材质预览 / 渲染）
  • Shift + Z：切换线框显示
  • 5（小键盘）：正交视图 ↔ 透视视图切换
  • 1/3/7（小键盘）：前 / 右 / 顶视图
  • Ctrl + Alt + Q：四视图切换

快速记忆清单（建模必背）

  • 导航：中键旋转、Shift + 中键平移、滚轮缩放
  • 模式：Tab（物体 / 编辑）、1/2/3（点 / 边 / 面）
  • 选择：A（全选）、B（框选）、Ctrl+L（相连）
  • 变换：G/R/S（移动 / 旋转 / 缩放）、Shift+D（复制）
  • 切割：K（裁刀）、Ctrl+R（环切）
  • 编辑：E（挤出）、I（内插）、Ctrl+B（倒角）

常用操作（看视频记录的）

  • 创建：shift+a

  • 复制：shift+d

blender渲染器

4.2版本之前EV渲染器是老版本

Blender 内置三大渲染引擎：Cycles、EEVEE、Workbench，各有明确分工；同时 Cycles 支持多种 GPU 加速后端（CUDA/OptiX/HIP/Metal 等）。

1. Cycles（物理光线追踪引擎）

  • 核心定位：照片级、物理精确的最终渲染输出。
  • 原理：基于路径追踪，模拟真实光线在场景中的反弹、折射、散射，计算每一束光的路径。
  • 特点
    • 优点：光影真实、质感细腻、全局光照 / 焦散 / 体积光效果极佳，适合静帧、影视级渲染。
    • 缺点：渲染慢，复杂场景可能需要数小时；依赖高采样率降噪。
  • 适用场景：产品渲染、建筑可视化、影视静帧、高质量动画单帧。

2. EEVEE（实时光栅化引擎）

  • 核心定位：极速预览、实时交互，兼顾一定画质。
  • 原理：基于光栅化，用近似算法模拟光照（屏幕空间反射、烘焙光照等）。
  • 特点
    • 优点：秒级渲染，可实时预览材质 / 灯光 / 动画；资源占用低。
    • 缺点：物理精度有限，焦散、复杂全局光照、体积效果不如 Cycles 真实。
  • 适用场景：动画预览、游戏开发、实时交互、快速出图、场景迭代。

3. Workbench（工作台预览引擎）

  • 核心定位：建模 / 布局专用，不用于最终输出。
  • 特点：极简、极快，提供线框、着色、平铺等模式，专注模型检视。
  • 适用场景：建模阶段、拓扑检查、快速布局、动画关键帧预览。

引擎对比速览

  • 日常建模 / 预览：用 Workbench。
  • 实时调材质 / 动画：用 EEVEE。
  • 最终高质量输出：用 Cycles + 对应 GPU 后端（RTX 必选 OptiX）。
引擎 技术路线 速度 真实度 主要用途
Cycles 路径追踪 慢 极高（照片级） 最终静帧 / 影视渲染
EEVEE 光栅化 极快（实时） 中高（近似） 预览、动画、游戏
Workbench 简化着色 最快 低（仅预览） 建模、检视

二、Cycles 渲染设备（GPU 加速后端）

Cycles 支持 CPU 与多种 GPU 后端，优先用 GPU 可提速 10–100 倍。

1. 主流后端与对应硬件

  • CUDA（NVIDIA 通用）
  • OptiX（NVIDIA RTX 专用，首选，OptiX > CUDA（速度差距明显））
  • HIP（AMD 专用）
  • Metal（Apple 专用M 系列）
  • oneAPI（Intel 专用）

2. 设备设置步骤（关键）

  1. 全局设置（选择后端）路径：编辑 → 偏好设置 → 系统 → Cycles 渲染设备。
  2. 场景设置（启用 GPU）路径：属性 → 渲染属性 → 设备。选择 GPU 计算；多显卡可勾选全部同架构 GPU。
    • 提示：只勾 GPU，不勾 CPU+GPU，否则会拖慢速度。